日前，清科开始招股公司作为国内唯一为集成电路厂商提供12英寸CMP商用机型的高端半导体设备制造商，技术实力雄厚自成立以来，始终坚持自主创新的发展路线，在CMP设备的关键技术方面进行了有效的突破和系统布局
根据引用的公开资料，CMP设备技术研发难度大，市场进入门槛高，因此全球半导体化学机械抛光设备市场高度集中多年来，华海清科坚持核心技术的自主研发，通过持续的R&D投入和关键技术的自主研究，形成了纳米级抛光，纳米颗粒超净清洗，纳米精密膜厚在线检测等数十项关键核心技术，解决了纳米级抛光，晶圆抛光，纳米厚度停止，纳米颗粒清洗等集成电路制造的关键问题，使CMP设备达到国内水平
根据中国国际招标网公布的CMP设备公开招标采购项目的招标结果，2019年至2021年，华海清科CMP设备的中标率分别为21.05%，40.24%和44.26%，这表明华海清科在国内CMP设备中的市场份额不断增加伴随着芯片制造技术的发展和芯片集成度的提高，CMP技术在集成电路生产过程中的应用逐渐增多以逻辑芯片为例，65nm工艺芯片大约需要12个CMP步骤，而7nm工艺需要30多个CMP步骤CMP设备的重要性和在产业链中的投资比重逐渐增加，市场前景广阔
华清科先后承担和联合承担了两项国家科技重大专项和三项国家重大项目/课题，开发了先进铜CMP系统及工艺，先进钨CMP系统及工艺，超精密减薄技术等技术，并将已有研发成果应用于相关产品或在研产品公开资料显示，华海清科的CMP设备在设备产出率，机器稳定运行时间，晶圆内部和晶圆之间的均匀性等方面都达到了国际同类设备的先进水平
通过集成电路制造先进工艺工业应用的持续R&D创新，华海清科CMP设备在逻辑芯片制造，3DNAND制造，DRAM制造领域的技术水平分别突破到14nm，128层，1X/1Ynm，为国内大型生产线最高水平，也是全球集成电路行业的先进水平。
